金属硅名称的由来

来源：http://www.aybycl.com/news/500.html 发布时间：2022-11-18 返回列表

金属硅英文silicon，来自拉丁文的silex,silicis，意思为燧石（火石）。民国初期，学者原将此元素译为"硅"而令其读为"xi（圭旁确可读xi音，如畦字）"（又，"硅"字本为"砉"字之异体，读huo）。然而在当时的时空下，由于拼音方案尚未推广普及，一般大众多误读为gui。由于化学元素译词除中国原有命名者，多用音译，化学学会注意到此问题，于是又创 "矽"字避免误读。台湾沿用"矽"字至今。中国大陆在1953年2月，中国科学院召开了一次化学物质命名扩大座谈会，有学者以"矽"与另外的化学元素"锡"和"硒"同音易混淆为由，通过并公布改回原名字"硅"并读"gui"，但并未意识到其实"硅"字本亦应读xi音。有趣的是，矽肺与矽钢片等词汇至今仍用矽字。在香港，两用法皆有，但"矽"较通用。
工业上，通常是在电炉中由碳还原二氧化硅而制得金属硅。化学反应方程式： SiO2 + 2C → Si + 2CO 。这样制得的硅纯度为97~98%，叫做金属硅。再将它融化后重结晶，用酸除去杂质，得到纯度为99.7~99.8%的金属硅。如要将它做成半导体用硅，还要将其转化成易于提纯的液体或气体形式，再经蒸馏、分解过程得到多晶硅。如需得到高纯度的硅，则需要进行进一步的提纯处理。

金属硅中的硅含量较高，达98%左右，因此金属硅的各项性质和硅类似。金属硅的各项特性是什么样的？金属硅具有半导体性质,其禁带宽度(300K)为1.107电子伏，本征电阻率(300K)为2.3×105欧姆•厘米，电子迁移率(20℃)为1350厘米/(伏•秒)，空穴迁移率(20℃)为480厘米2/伏•秒），电子扩散系数(300K)为34.6厘米2/秒，空穴扩散系数(300K)为12.3厘米2/秒。